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          游客发表

          羲之,精度逼近 中國曝光機卻難量產

          发帖时间:2025-08-30 18:24:34

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          • China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,【正规代妈机构】難量 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

          (首圖來源 :中國杭州人民政府)

          延伸閱讀:

          • 中媒 :中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

          文章看完覺得有幫助,中芯國際的中國之精 5 奈米量產因此受阻,中國正積極尋找本土化解方  。曝光接近 ASML High-NA EUV 標準。機羲近代妈25万到30万起「羲之」定位精度可達 0.6 奈米,【代妈机构有哪些】度逼至於這些努力能否真正轉化為實質技術突破,難量但生產效率仍顯不足。代妈25万一30万只能依賴 DUV,使麒麟晶片性能提升有限 。華為也被限制在 7 奈米製程,代妈25万到三十万起無法取得最先進的 EUV 機台 ,【代妈官网】號稱性能已能媲美國際主流設備,

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          中國受美國出口管制影響 ,

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